Pulizia della neve di CO₂ ad alta purezza per i processi sensibili dei semiconduttori
La sfida
Nella produzione di semiconduttori, i componenti ottici come gli specchi di deviazione devono essere puliti senza lasciare alcun residuo. Anche le più piccole impurità, dell'ordine di ppt (parti per trilione), possono compromettere la qualità dei wafer e quindi la resa. Per la pulizia con neve di CO₂ è necessaria CO₂ di elevata purezza, che non deve essere contaminata nemmeno durante la compressione. Le tecniche di compressione classiche comportano il rischio di contaminazione da lubrificanti o sistemi di tenuta. Si cercava quindi una soluzione in grado di comprimere la CO₂ in modo estremamente pulito e sicuro dal punto di vista del processo.
La soluzione sera
Presso il cliente viene utilizzato un compressore a membrana metallica di sera per la compressione di CO₂ gassosa ad altissima purezza. La CO₂ compressa viene successivamente raffreddata, liquefatta ed espansa tramite un ugello, in modo da formare finissimi cristalli di CO₂ (“neve di CO₂”). Con questa neve vengono puliti completamente e senza lasciare residui i delicati specchi in produzione. La tecnologia di compressione utilizzata funziona senza lubrificanti ed è ermeticamente sigillata, il che esclude in modo affidabile qualsiasi contaminazione del fluido. In questo modo, la purezza richiesta del processo viene mantenuta anche durante la produzione del fluido di pulizia.
I vantaggi per il cliente
- Produzione affidabile di neve di CO₂ ultra pura per processi di pulizia delicati
- Nessuna contaminazione della CO₂ dovuta alla compressione
- Qualità di pulizia stabile e riproducibile nella produzione di wafer
- Funzionamento dell'impianto senza guasti per molti anni
Breve sintesi
Il progetto dimostra che i requisiti di purezza estremamente elevati nella produzione di semiconduttori possono essere soddisfatti in modo sicuro solo con una tecnologia di compressione costantemente pulita ed ermeticamente sigillata.